Axit clohydric-Silicon đã qua xử lý dùng cho máy tách pin

Silica kết tủa được tạo ra bằng cách axit hóa natri silicat (thủy tinh nước). Khi axit clohydric (HCl) được sử dụng làm tác nhân axit hóa, silica thu được thường mang lại hiệu quả rửa cao hơn, tạp chất kim loại còn sót lại thấp hơn, tính chất hóa học bề mặt ổn định hơn và độ ổn định pH được cải thiện so với một số tuyến axit khác. Trình tự sản xuất-axit hóa, kiểm soát kết tủa, lọc và rửa nhiều lần, sau đó sấy khô và phân loại-cho phép kiểm soát chặt chẽ kích thước hạt, diện tích bề mặt và mức độ tạp chất.

3.1 Tạo ion-Tiến hành "Đường cao tốc": Độ xốp cao & Cấu trúc lỗ chân lông được kiểm soát

Các hạt silica tạo thành mạng lưới vi xốp 3D ổn định giúp tăng độ xốp tổng thể và tạo ra các kênh liên kết để vận chuyển ion. Kiến trúc này làm giảm điện trở trong và tăng cường hiệu suất sạc-nhanh cũng như tốc độ xả-cao.

3.2 Khả năng thấm ướt và giữ chất lỏng điện phân vượt trội

Các nhóm –OH (silanol) dồi dào trên bề mặt silica thu hút các thành phần điện phân phân cực (EC, EMC, DEC), cho phép làm ướt nhanh, phân phối chất điện phân đồng đều và hấp thụ chất lỏng mạnh-cần thiết cho vòng đời dài và sự hình thành SEI ổn định.

3.3 Độ ổn định nhiệt vượt trội: “Tường lửa” an toàn

Bản chất vô cơ và khả năng chịu nhiệt cao của silica đóng vai trò như một bộ xương cứng trên màng polyolefin, ngăn ngừa sự co rút hoặc tan chảy nghiêm trọng trong các hiện tượng nhiệt và giảm nguy cơ đoản mạch bên trong và thoát nhiệt.

3.4 Gia cố cơ học chống thủng và đuôi gai

Silica phân tán đồng đều làm tăng khả năng chống đâm thủng và độ bền kéo, bảo vệ các dải phân cách khỏi hư hỏng vật lý trong quá trình cuộn dây, xếp chồng và đạp xe.

JK SILICA là nhà sản xuất chuyên biệt về vật liệu silica chức năng với khả năng sản xuất và R&D

Độ tinh khiết cực cao:quá trình rửa và tinh chế tiên tiến, sản xuất tự động khép kín và kiểm soát nguyên liệu thô nghiêm ngặt.

Dòng sản phẩm & tùy biến:nhiều cấp độ BET, tùy chọn D50 và dịch vụ sửa đổi bề mặt để phù hợp với quy trình phủ.

Hỗ trợ kỹ thuật & năng lực cung cấp:kỹ thuật ứng dụng cho công thức tạo bùn,-khắc phục sự cố tại chỗ và cung cấp sản xuất hàng loạt ổn định.

Yêu cầu mẫu và dữ liệu kỹ thuật của JK SILICA

Q:Liệu silica có thể cải thiện-hiệu suất sạc nhanh không?

Đáp: Có-bằng cách tạo ra các đường dẫn ion có điện trở suất thấp-và cải thiện khả năng tiếp cận chất điện phân, lớp phủ gốc silica-hỗ trợ hoạt động sạc-nhanh được nâng cao.

 

Q: Chất kết dính nào tương thích với silica?

Trả lời: Các chất kết dính phổ biến bao gồm các hệ thống PVDF, PAA, CMC, SBR và hybrid; việc lựa chọn chất kết dính phụ thuộc vào dung môi phủ và chiến lược làm khô.

 

Q:Silica cải thiện độ an toàn nhiệt như thế nào?

Đáp: Lớp phủ gốm hoạt động như một bộ xương cứng giúp giảm độ co ngót của nền PE/PP trong các hiện tượng nhiệt, giảm nguy cơ đoản mạch.

 

Q:D50 điển hình cho lớp phủ silica phân tách là gì?

Trả lời: D50 thường dao động từ 0,5 đến 2,5 μm tùy thuộc vào nhu cầu thiết kế và xử lý.

 

Q:Axit clohydric-Đã qua chế biến so với Axit sunfuric-Silica đã qua chế biến

Trả lời: Mặc dù cả hai sản phẩm đều là silic kết tủa, việc lựa chọn axit ảnh hưởng đáng kể đến tính chất cuối cùng:

Mức độ tinh khiết và tạp chất:Lộ trình HCl{0}}tạo điều kiện rửa sâu hơn và loại bỏ cặn ion hiệu quả hơn, cho phép kiểm soát Fe, Cu, Na và các kim loại khác ở mức ppm hoặc dưới{1}}ppm.

Khả năng tương thích lớp phủ:Silica có nguồn gốc từ HCl-thường mang lại độ ổn định phân tán tốt hơn và các nhóm bề mặt silanol ổn định hơn-, chìa khóa cho vữa phủ gốm đồng nhất.

Độ ổn định pH:Biến động pH hẹp hơn mang lại lợi ích cho các hệ thống chất kết dính như PAA, CMC và PVDF.

 

Liên hệ với JK SILICA để yêu cầu thông số kỹ thuật sản phẩm, bảng dữ liệu kỹ thuật hoặc mẫu.
Đội ngũ kỹ thuật của chúng tôi sẵn sàng hỗ trợ bạn phát triển thiết bị phân tách và giúp bạn đạt được hiệu suất pin cao hơn.

Liên hệ ngay